特許
J-GLOBAL ID:200903032516764478

可視光応答型光触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田邊 義博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-118581
公開番号(公開出願番号):特開2007-289821
出願日: 2006年04月21日
公開日(公表日): 2007年11月08日
要約:
【課題】低温度領域で可視光応答型光触媒を製造することができ、かつ、質の高い光触媒を得ることができる可視光応答型光触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】基台22にTi基板(20×20mm)を載置し、真空チャンバ2内に二酸化窒素(NO2)を供給し、その濃度を33%に保った。また、真空チャンバ2内の圧力は200Paとした。そして、Ti基板の温度を種々に変更してプラズマ窒化処理を行った。処理後のTi基板を調べた結果、200°Cに保ってプラズマ窒化処理を行ったTi基板の性能が最も良かったことが確認できた。【選択図】図1
請求項(抜粋):
可視光の照射に応答して光触媒反応を起こす可視光応答型光触媒の製造方法であって、 窒素酸化物雰囲気中においてチタン材に対してプラズマ窒化処理を施し、当該プラズマ窒化処理中はチタン材の温度を100°C〜300°Cに保つようにすることを特徴とする可視光応答型光触媒の製造方法。
IPC (3件):
B01J 35/02 ,  B01J 27/24 ,  B01D 53/86
FI (3件):
B01J35/02 J ,  B01J27/24 M ,  B01D53/36 J
Fターム (33件):
4D048AA19 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA46X ,  4D048BB03 ,  4D048EA01 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA18 ,  4G169BA48A ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB11A ,  4G169BB11B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC50C ,  4G169BD02C ,  4G169BD06C ,  4G169CA10 ,  4G169CA17 ,  4G169EA12 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FA05 ,  4G169FB02 ,  4G169FC06 ,  4G169FC07 ,  4G169HA02 ,  4G169HB01 ,  4G169HC02 ,  4G169HD13 ,  4G169HE07
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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