特許
J-GLOBAL ID:200903073710547435

可視光応答型光触媒体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-418243
公開番号(公開出願番号):特開2005-177548
出願日: 2003年12月16日
公開日(公表日): 2005年07月07日
要約:
【課題】基材表面に形成されている紫外線応答型酸化チタン光触媒膜を、基材の温度を250°C以上に上げることなく、可視光応答型光触媒膜に改質する可視光応答型光触媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の可視光応答型光触媒体の製造方法は、基材表面に形成された酸化チタン光触媒膜を、少なくとも窒素を含むガスを解離・電離・励起して生成された窒素原子を含むプラズマ中で窒化処理することにより、前記酸化チタン光触媒膜の表層部を可視光応答型光触媒に改質することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基材表面に形成された酸化チタン光触媒膜を、少なくとも窒素を含むガスを解離・電離・励起して生成された窒素原子を含むプラズマ中で窒化処理することにより、前記酸化チタン光触媒膜の表層部を可視光応答型光触媒に改質することを特徴とする可視光応答型光触媒体の製造方法。
IPC (4件):
B01J35/02 ,  B01J37/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/58
FI (4件):
B01J35/02 J ,  B01J37/34 ,  C23C14/08 E ,  C23C14/58 C
Fターム (21件):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB11A ,  4G069BB11B ,  4G069BD06A ,  4G069BD06B ,  4G069CA10 ,  4G069EA08 ,  4G069FB02 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA48 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA02 ,  4K029CA05 ,  4K029EA08 ,  4K029GA02
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 国際公開W001/010552号公報
審査官引用 (7件)
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