特許

J-GLOBAL ID：200903032520211955

光触媒を用いた加工方法

発明者： 松本 泰道
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-094846
公開番号（公開出願番号）：特開2001-278686
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】【目的】 光触媒反応を利用してダイヤモンド,炭化物,窒化物,グラファイト等の難加工材料を室温で容易に加工する。【構成】 シリコン基板1上に形成したダイヤモンド薄膜2を帯状光触媒層3で部分的に覆い、光ビームLを照射すると、励起された光触媒粒子によって生じる水酸化物ラジカル,酸素分子ラジカル等でダイヤモンド薄膜2表面の炭素が酸化され、ダイヤモンド薄膜2が選択的にエッチング又は研磨される。

請求項（抜粋）：

ダイヤモンド,グラファイト,炭化物,窒化物,硼化物から選ばれた非金属材料を光触媒粒子と接触させ、光触媒粒子のバンドギャップより大きなエネルギーをもつ光を照射させ、励起した光触媒粒子の光触媒反応で生成するラジカルにより非金属材料の表面をエッチングすることを特徴とする光触媒を用いた加工方法。

IPC (4件)：

C04B 41/91 ,  H01L 21/302 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02

FI (4件)：

C04B 41/91 Z ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  H01L 21/302 Z

Fターム (13件)：

4G069AA02 ,  4G069AA15 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CD10 ,  4G069DA05 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EC22Y ,  5F004BA19 ,  5F004BA20 ,  5F004BB05 ,  5F004DB00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• パターン形成体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-053774   出願人：大日本印刷株式会社
• 光触媒およびこれを用いた環境汚染物質除去材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-022141   出願人：石川島播磨重工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

• 化学大辞典5, 19791110, 縮刷版第23刷, 第701、886頁
• 化学大辞典6, 19791110, 縮刷版第23刷, 第238頁