特許
J-GLOBAL ID:200903032526263787
露光装置及びパターンエラー検出方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
龍華 明裕
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-353141
公開番号(公開出願番号):特開2004-186513
出願日: 2002年12月04日
公開日(公表日): 2004年07月02日
要約:
【課題】ウェハに露光された露光パターンのエラーを正確に検出できる露光装置及びパターンエラー検出方法を提供する。【解決手段】ウェハに所望の露光パターンを露光する露光装置であって、ウェハに露光すべき露光パターンのデータである露光データを保持するバッファメモリと、第1領域を露光するための第1制御信号に基づいてバッファメモリが出力した第1露光データと、第1領域と同一の露光パターンが露光されるべき第2領域を露光するための第2制御信号に基づいてバッファメモリが出力した第2露光データとを比較する比較部と、比較部による比較結果に基づいて、ウェハに露光された露光パターンのエラーを検出するエラー検出部とを備える。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
ウェハに所望の露光パターンを露光する露光装置であって、
前記ウェハに露光すべき露光パターンのデータである露光データを保持するバッファメモリと、
第1領域を露光するための第1制御信号に基づいて前記バッファメモリが出力した第1露光データと、前記第1領域と同一の露光パターンが露光されるべき第2領域を露光するための第2制御信号に基づいて前記バッファメモリが出力した第2露光データとを比較する比較部と、
前記比較部による比較結果に基づいて、前記ウェハに露光された露光パターンのエラーを検出するエラー検出部と
を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
FI (3件):
H01L21/30 541J
, G03F7/20 521
, H01L21/30 541S
Fターム (9件):
5F056AA06
, 5F056AA07
, 5F056AA22
, 5F056BA10
, 5F056CA05
, 5F056CA28
, 5F056CB14
, 5F056CD01
, 5F056CD09
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
特開平4-129212
-
レチクルパターン検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-258593
出願人:富士通株式会社
-
特開昭60-107832
審査官引用 (3件)
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特開平4-129212
-
レチクルパターン検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-258593
出願人:富士通株式会社
-
特開昭60-107832
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