リホ-ミング用ニッケル系触媒およびこれを用いた合成ガスの製法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：志賀正武 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104634
公開番号（公開出願番号）：特開2000-000469
出願日： 1999年04月12日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：

【要約】【課題】メタン等の炭化水素と水蒸気等の改質物質とを反応させて合成ガスを製造する際に、炭素質(カーボン)が析出しないようにする。【解決手段】下記式で表わされる組成を有する複合酸化物からなり、MおよびNiが高分散化状態にあるリホーミング用ニッケル系触媒を使用する。aM・bNi・cMg・dCa・eO(式中、a、b、c、d、eはモル分率であり、a+b+c+d=1、0.0001≦a≦0.10、0.0001≦b≦0.10、0.80≦(c+d)≦0.9998、0<c≦0.9998、0≦d<0.9998、e=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数であり、Mは周期律表第3B族元素、第4A族元素、第6B族元素、第7B族元素、第1A族元素およびランタノイド元素の少なくとも1種類の元素である。)

請求項（抜粋）：

下記式で表わされる組成を有する複合酸化物からなり、MおよびNiが該複合酸化物中で高分散化されていることを特徴とするリホーミング用ニッケル系触媒。aM・bNi・cMg・dCa・eO(式中、a、b、c、d、eはモル分率であり、a+b+c+d=1、0.0001≦a≦0.10、0.0001≦b≦0.10、0.80≦(c+d)≦0.9998、0<c≦0.9998、0≦d<0.9998、e=元素が酸素と電荷均衡を保つのに必要な数であり、Mは周期律表第3B族元素、第4A族元素、第6B族元素、第7B族元素、第1A族元素およびランタノイド元素の少なくとも1種類の元素である。)

IPC (8件)：

B01J 23/76 , B01J 23/78 , B01J 23/835 , B01J 23/889 , B01J 23/88 , B01J 23/89 , C01B 3/40 , H01M 8/06

FI (8件)：

B01J 23/76 M , B01J 23/78 M , B01J 23/88 M , B01J 23/89 M , C01B 3/40 , H01M 8/06 G , B01J 23/82 M , B01J 23/84 311 M

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭50-045794
特公昭48-026596
特開平4-227062

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