フィルムのCVD連続加工装置およびCVD連続加工方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：香川幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-045360
公開番号（公開出願番号）：特開平9-209158
出願日： 1996年02月07日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】CVD方式でフィルム表面に連続的に、撥水性、防汚性などの機能被膜を付与。【解決手段】真空容器99、それに連結する真空ポンプ及び被膜としてプラズマ重合したときに有機化合物被膜を形成し得る化合物を充填しかつこれを気化する加熱可能な容器を有し、容器99内に、フィルム10を連続的に繰出す繰出しロ-ル系、CVD蒸着されたフィルム10の巻取ロ-ル系、その両系の間に、連続的に上記繰出しロ-ル系から繰出し走行するフィルム10面にCVD蒸着が可能なフィルム走行特定領域12およびそれに隣接するプラズマ発生領域21を設けるとともに、上記加熱可能な容器と容器99内部とを結んで、上記加熱可能な容器内で気化した上記化合物をプラズマ発生領域21に導入する配管装置を設けてなるフィルムのCVD連続加工装置。

請求項（抜粋）：

真空容器、該真空容器に連結する真空ポンプ及び被膜としてプラズマ重合したときに有機化合物被膜を形成し得る化合物を充填しかつこれを気化する加熱可能な容器を有し、上記真空容器内に、フィルムを連続的に繰出す繰出しロ-ル系、CVD蒸着されたフィルムの巻取ロ-ル系、該繰出しロ-ル系と該巻取ロ-ル系との間に、連続的に上記繰出しロ-ル系から繰出し走行するフィルム面にCVD蒸着が可能なフィルム走行特定領域および該走行特定領域に隣接するプラズマ発生領域を設けるとともに、上記加熱可能な容器と上記真空容器内部とを結んで、上記加熱可能な容器内で気化した上記化合物をプラズマ発生領域に導入する配管装置を設けてなるフィルムのCVD連続加工装置。

IPC (4件)：

C23C 16/50 , C08J 7/00 306 , C08J 7/04 , G02B 1/10

FI (4件)：

C23C 16/50 , C08J 7/00 306 , C08J 7/04 S , G02B 1/10 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

物体の表面処理方法、表面処理装置および表面処理された光学部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-297975 出願人：株式会社シンクロン, 株式会社那須ニコン, 株式会社ニコン
特開平4-000369
特開平2-103725

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