特許

J-GLOBAL ID：200903032613747987

改良されたウエハ温度均一性を有する静電チャック

発明者： デーヴィッド・エドワード・コテッキ ,  カート・アンドリュー・オルソン ,  アンソニー・ジョン・リッチ ,  ステファン・エリック・ラッシグ ,  アンワー・ホーシン
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-176416
公開番号（公開出願番号）：特開平8-055905
出願日： 1995年07月12日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】【目的】 静電チャック(ESC)が、たとえば電子サイクロトロン共鳴化学気相成長法(ECR-CVD)リアクタ内などでの処理中に、ウエハまたはウエハ様ワークピースの表面の温度の均一性の向上と調節能力を提供する。【構成】 温度均一性は、ESCの表面の改良された溝のパターンを介して達成され、これによって、ESCとそれによって保持されるウエハの間に、高真空であっても不活性気体を含めることができる。ESCは、ESCの表面の残りの区域の表面粗さの選択によって、特定の所望の温度範囲に適合される。その範囲内での調節能力は、チャック面に対してウエハを保持する静電電圧の変更によって達成される。

請求項（抜粋）：

ウエハと接触するための静電チャックの前面上の誘電層であって、所定の表面粗さと、静圧でその中に配置できる気体の平均自由行程より相対的に短い深さまで形成された溝のパターンとを有し、前記溝のパターンが、実質的に一定の接触面積分数を前記溝のパターンがその上に画定する中央部分と、前記一定の接触面積分数より大きいもう1つの接触面積分数を有する外側の環状領域とを有する、前記誘電層と、前記静電チャックから熱を除去するため前記誘電層と熱的に通じている冷却板と、前記静電チャックの前記前面に対する前記ウエハの静電引力を発生するための電極とを含む、加工中の半導体ウエハを保持するための静電チャック。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  B23Q 3/15

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-371579
  
• 特開平2-110927
  
• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-064122   出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
• 特開平4-371579
  
• 特開平2-110927