特許
J-GLOBAL ID:200903032667692894

薄膜磁気ヘッドとその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森田 寛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-309724
公開番号(公開出願番号):特開2000-137903
出願日: 1998年10月30日
公開日(公表日): 2000年05月16日
要約:
【要約】【課題】 小型の薄膜磁気ヘッドスライダーを高い寸法精度で、また高い合格率で製造できる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 薄膜磁気ヘッドのスライダー長手方向の長さより厚い基板の一方の面上に、複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成する工程と、薄膜磁気ヘッド素子が形成されていない基板の裏面を研削、研磨する事により基板形状のままスライダー長手方向の寸法を得る工程と、製造ロット等をレーザー刻印する工程と、複数の薄膜磁気ヘッド素子を形成したこの基板を切断、分割してスライダー加工工程とを備えた薄膜磁気ヘッドの製造方法である。
請求項(抜粋):
薄膜磁気ヘッドのスライダー長手方向の長さより厚い基板の一方の面に薄膜磁気ヘッド素子を形成する工程と、前記基板の他方の面を研削、研磨加工することにより基板厚みをスライダー長手方向寸法にする工程と、前記基板を切断してスライダーを形成する工程を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件):
G11B 5/31 ,  G11B 5/60
FI (2件):
G11B 5/31 M ,  G11B 5/60
Fターム (8件):
5D033CA10 ,  5D033DA01 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31 ,  5D042NA01 ,  5D042PA08 ,  5D042QA04 ,  5D042RA04
引用特許:
審査官引用 (5件)
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