排ガス処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-073386
公開番号（公開出願番号）：特開2001-259358
出願日： 2000年03月16日
公開日（公表日）： 2001年09月25日
要約：

【要約】【課題】排ガス処理装置において、吸気管の内部に付着した固形物を簡単且つ効率よく除去する。【解決手段】本発明の排ガス処理装置は、吸収液4中に下部が浸漬され且つ当該吸収液4との接触により固形物を生成する成分を含む排ガスAが導入される吸気管1を備える構成において、上記吸気管1は、当該吸気管1内でその下部開放端3よりも上方において水スプレイ手段15を備えており、この水スプレイ手段15に水を間欠的に供給するための間欠的水供給手段がさらに設けられている。上記水スプレイ手段15は上下移動自在としてもよい。

請求項（抜粋）：

吸収液中に下部が浸漬され且つ当該吸収液との接触により固形物を生成する成分を含む排ガスが導入される吸気管を備える排ガス処理装置であって、上記吸気管は、当該吸気管内でその下部開放端よりも上方において水スプレイ手段を備えており、この水スプレイ手段に水を間欠的に供給するための間欠的水供給手段をさらに設けたことを特徴とする、排ガス処理装置。

IPC (7件)：

B01D 53/46 , B01D 53/18 , B01D 53/34 ZAB , B01F 3/04 , B01F 15/00 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (8件)：

B01D 53/18 A , B01D 53/18 E , B01F 3/04 C , B01F 15/00 D , H01L 21/205 , B01D 53/34 120 A , B01D 53/34 ZAB , H01L 21/302 B

Fターム (45件)：

4D002AA18 , 4D002AA19 , 4D002AA22 , 4D002AA24 , 4D002AA26 , 4D002BA02 , 4D002CA01 , 4D002CA06 , 4D002DA35 , 4D002EA13 , 4D002GA03 , 4D002GB04 , 4D002GB20 , 4D002HA01 , 4D020AA10 , 4D020BA23 , 4D020BB03 , 4D020BC06 , 4D020CB02 , 4D020CB04 , 4D020CB27 , 4D020CC20 , 4D020CC21 , 4D020DA01 , 4D020DB04 , 4D020DB15 , 4D020DB20 , 4G035AB18 , 4G035AE08 , 4G035AE13 , 4G037DA14 , 4G037DA16 , 4G037EA03 , 5F004AA16 , 5F004BC08 , 5F004CA09 , 5F004DA00 , 5F004DA04 , 5F004DA11 , 5F004DA25 , 5F004DA29 , 5F045BB10 , 5F045BB20 , 5F045EC07 , 5F045EG07

引用特許：

審査官引用 (7件)

排ガス中和設備およびその運転方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-322747 出願人：株式会社タクマ
特開昭62-125827
特開平4-346815

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