ガスバリア膜付き積層体及びその形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金山聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-285142
公開番号（公開出願番号）：特開2004-114645
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】高いバリア性を有するとともに、良好な透明性をもつバリア膜とその製造方法、上記のバリア膜を用いた包装用容器、画像表示媒体などの積層体を提供することを目的とする。【解決手段】基材の少なくとも片面に、ガスバリア膜を有するガスバリア膜付積層体において、該ガスバリア膜として窒化珪素及び/または酸化窒化珪素により膜を形成し、その後に酸化ガスを用いて、ガスバリア膜が放電処理されたことを特徴とする。すなわち、本発明のガスバリア膜付積層体は、フィルムなどの基材の少なくとも一方の面に設けられた窒化珪素膜若しくは窒素リッチな酸化窒化珪素膜に酸素プラズマを照射することにより作製される酸化窒化珪素膜の積層体である。酸素は窒素などに比べ珪素との反応性が高いため、未結合手などと速やかに反応し透明化の促進が可能となる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材の少なくとも片面に、ガスバリア膜を有するガスバリア膜付積層体において、該ガスバリア膜として窒化珪素及び/または酸化窒化珪素により膜を形成し、その後に酸化ガスを用いて、ガスバリア膜が放電処理されたことを特徴とするガスバリア膜付き積層体。

IPC (1件)：

B32B9/00

FI (1件)：

B32B9/00 A

Fターム (40件)：

4F100AB11A , 4F100AD03B , 4F100AD03C , 4F100AD05B , 4F100AD05C , 4F100AG00A , 4F100AK01A , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA06 , 4F100BA07 , 4F100BA10B , 4F100BA10C , 4F100EJ55 , 4F100EJ552 , 4F100EJ61 , 4F100EJ612 , 4F100GB23 , 4F100GB41 , 4F100GB72 , 4F100JD02 , 4F100JD02B , 4F100JD02C , 4F100JN01 , 4F100YY00B , 4F100YY00C , 4K029AA06 , 4K029AA09 , 4K029AA11 , 4K029AA24 , 4K029AA25 , 4K029BA41 , 4K029BA58 , 4K029BA62 , 4K029BC00 , 4K029BD00 , 4K029CA05 , 4K029EA01 , 4K029GA02

引用特許：

審査官引用 (6件)

有機エレクトロルミネッセンス表示パネル
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-291125 出願人：パイオニア株式会社
透明バリアフィルムとこれを用いた積層材および包装用容器
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-204343 出願人：大日本印刷株式会社
特開平1-165434

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