特許
J-GLOBAL ID:200903032777262755

排ガス浄化用酸化触媒装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 佐藤 辰彦 ,  堀 進 ,  鷺 健志 ,  本間 賢一 ,  加賀谷 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-316338
公開番号(公開出願番号):特開2009-136788
出願日: 2007年12月06日
公開日(公表日): 2009年06月25日
要約:
【課題】内燃機関の排ガス中のパティキュレートをより低温で酸化し浄化することができる排ガス浄化用酸化触媒装置を提供する。【解決手段】排ガス浄化用酸化触媒装置1は、軸方向に貫通して形成された複数の貫通孔のうち、排ガス流入部4aが開放されるとともに排ガス流出部4bが閉塞された複数の流入セル4と、複数の貫通孔の排ガス流入部5aが閉塞されるとともに排ガス流出部5bが開放された複数の流出セル5とを備え、流入セル4及び流出セル5を交互に配設して各セル4,5の境界部をセル隔壁6とするウォールフロー構造を有する多孔質フィルタ基材2と、セル隔壁6の少なくとも流入セル4側の表面に担持された多孔質複合金属酸化物からなる多孔質触媒層3とを備え、多孔質触媒層3は、直径が0.01〜5μmの範囲である細孔を備え、多孔質フィルタ基材2及び多孔質触媒層3全体の気孔率が、35〜70%の範囲である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
内燃機関の排ガス中のパティキュレートを、複合金属酸化物からなる触媒を用いて酸化して浄化する排ガス浄化用酸化触媒装置において、 軸方向に貫通して形成された複数の貫通孔のうち、排ガス流入部が開放されるとともに排ガス流出部が閉塞された複数の流入セルと、該複数の貫通孔の排ガス流入部が閉塞されるとともに排ガス流出部が開放された複数の流出セルとを備え、該流入セル及び該流出セルを交互に配設して各セルの境界部をセル隔壁とするウォールフロー構造を有する多孔質フィルタ基材と、 該セル隔壁の少なくとも該流入セル側の表面に担持された多孔質複合金属酸化物からなる多孔質触媒層とを備え、 該多孔質触媒層は、直径が0.01〜5μmの範囲である細孔を備え、 該多孔質フィルタ基材及び該多孔質触媒層全体の気孔率が、35〜70%の範囲であることを特徴とする排ガス浄化用酸化触媒装置。
IPC (7件):
B01J 35/10 ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/68 ,  B01J 35/04 ,  F01N 3/28 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/02
FI (9件):
B01J35/10 301F ,  B01D53/36 104B ,  B01J23/68 A ,  B01J35/04 301E ,  F01N3/28 301P ,  F01N3/10 A ,  F01N3/28 301Q ,  F01N3/02 301C ,  F01N3/02 321A
Fターム (58件):
3G090AA03 ,  3G090BA01 ,  3G091AB02 ,  3G091AB13 ,  3G091BA11 ,  3G091BA39 ,  3G091GA07 ,  3G091GA18 ,  3G091GB01W ,  3G091GB10W ,  3G091GB10X ,  3G091GB17X ,  3G091HA14 ,  4D048AA14 ,  4D048AB01 ,  4D048BA06X ,  4D048BA18X ,  4D048BA28X ,  4D048BA32X ,  4D048BA34X ,  4D048BA42X ,  4D048BA45X ,  4D048BB02 ,  4D048BB14 ,  4D048BB17 ,  4D058JA32 ,  4D058JB06 ,  4D058MA44 ,  4D058SA08 ,  4G169AA03 ,  4G169AA12 ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BB15B ,  4G169BC32A ,  4G169BC32B ,  4G169BC40A ,  4G169BC40B ,  4G169BC62A ,  4G169BC62B ,  4G169BC70A ,  4G169BC70B ,  4G169BD05B ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA18 ,  4G169EA08 ,  4G169EA27 ,  4G169EB10 ,  4G169EB12X ,  4G169EB14Y ,  4G169EB15X ,  4G169EB17X ,  4G169EC09Y ,  4G169EC18X ,  4G169EC22X ,  4G169EC23 ,  4G169FC08
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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