特許
J-GLOBAL ID：200903032792858176

光学装置及びデバイス製造方法

発明者：
田辺 正幸

田辺 正幸 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-283569
公開番号（公開出願番号）：特開2001-110698
出願日： 1999年10月04日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：
【要約】【課題】光学装置内の不純物の濃度を規定し、その不純物濃度を管理することで、少量で必要最低限の純度の不活性ガスによって光学素子表面への不純物の付着による汚染を減少させることが可能な光学装置及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】光学素子の周囲の空間を含む雰囲気の不純物の濃度を検出する検出器を有することを特徴とする光学装置と、前記光学装置によりデバイスパターンで前記ウエハを露光する段階と、該露光したウエハを現像する段階とを有することを特徴とするデバイス製造方法を構成する。
請求項（抜粋）：
光学素子の周囲の空間を含む雰囲気の不純物の濃度を検出する検出器を有することを特徴とする光学装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G01N 21/15 ,  G03F 7/20 521
FI (4件)：
G01N 21/15 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 F
Fターム (17件)：
2G057AB03 ,  2G057AB04 ,  2G057AC05 ,  2G057JA03 ,  2G057JA20 ,  5F046AA22 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB24 ,  5F046DA27 ,  5F046DB10 ,  5F046DB14
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)

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