パターン寸法測定方法およびパターン寸法測定処理プログラムを記録した記録媒体

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-042069
公開番号（公開出願番号）：特開平11-237231
出願日： 1998年02月24日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】正確な寸法測定を可能にする。【解決手段】走査型電子顕微鏡から出力される測定すべきパターンの画像信号を画像処理することによって得られたプロファイルデータのピーク付近のプロファイル波形を所定の関数で近似する第1のステップと、所定の関数の、ピーク付近における極大値およびこの極大値を取る点の位置を求め、この位置をパターンのエッジ位置とする第2のステップと、を備えていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

走査型電子顕微鏡から出力される測定すべきパターンの画像信号を画像処理することによって得られたプロファイルデータのピーク付近のプロファイル波形を所定の関数で近似する第1のステップと、前記所定の関数の、前記ピーク付近における極大値およびこの極大値を取る点の位置を求め、この位置を前記パターンのエッジ位置とする第2のステップと、を備えていることを特徴とするパターン寸法測定方法。

IPC (5件)：

G01B 15/00 , G01N 23/225 , G06T 7/00 , H01J 37/28 , H01L 21/66

FI (6件)：

G01B 15/00 B , G01N 23/225 , H01J 37/28 B , H01L 21/66 J , H01L 21/66 Z , G06F 15/62 400

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平1-221607
特開平3-196654
特開平3-289507

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審査官引用 (2件)

特開平1-221607
特開平3-196654

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