特許
J-GLOBAL ID：200903032823019941

排水処理方法及び装置

発明者：
豊田 一郎

豊田 一郎 について

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大村 友章

大村 友章 について

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橋爪 隆夫

橋爪 隆夫 について

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森 敏一

森 敏一 について


出願人/特許権者：
三菱重工業株式会社

三菱重工業株式会社 について

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株式会社プラウド

株式会社プラウド について


代理人 (2件)： 高橋 昌久 ,  花田 久丸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-296168
公開番号（公開出願番号）：特開2004-130185
出願日： 2002年10月09日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】アンモニアや有機物等を効果的に除去しうる排水処理方法とその装置を提供する。【解決手段】電解反応処理槽1と高電圧パルス処理部2A(ラジカル発生部)を効果的に組み合わせて省設置面積化をはかるとともに、電解反応処理槽の電極反応で、寿命の長いH2O2やO3を形成させ、これらを含有させた溶液を高電圧パルス処理部で・OHラジカルに変換し、一挙に連鎖反応系を実現させ、有効に有機物等を分解除去させることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
電極反応により活性酸素を形成させる電解反応処理槽と、該処理槽に液連通するラジカル発生部とから構成され、処理対象排水が電解反応処理槽に供給される供給通路と、電解処理を施した処理液をラジカル発生部に導きいれる導入通路よりなることを特徴とする排水処理装置。
IPC (6件)：
C02F1/46 ,  C02F1/32 ,  C02F1/34 ,  C02F1/48 ,  C02F1/72 ,  C02F1/78
FI (6件)：
C02F1/46 Z ,  C02F1/32 ,  C02F1/34 ,  C02F1/48 B ,  C02F1/72 Z ,  C02F1/78
Fターム (33件)：
4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB12 ,  4D037BA18 ,  4D037BA26 ,  4D037CA04 ,  4D037CA06 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050AB07 ,  4D050AB35 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050CA07 ,  4D050CA10 ,  4D050CA16 ,  4D050CA20 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061EA02 ,  4D061EA13 ,  4D061EB18 ,  4D061EB19 ,  4D061EB39 ,  4D061FA07 ,  4D061FA14 ,  4D061FA20 ,  4D061GC14 ,  4D061GC15
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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