特許
J-GLOBAL ID：200903032863072020
イオン注入方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-189085
公開番号（公開出願番号）：特開平7-296763
出願日： 1994年04月27日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 レジスト付のウェーハから発生するガスによる注入室内の真空度悪化を防止して正確なドーズ量の注入処理が可能であり、しかもスループットの低下を抑えることができるイオン注入方法およびその装置を提供する。【構成】 このイオン注入方法は、ウェーハディスク26の上流側に、そこを通過するイオンビーム4を絞るものであってその絞り度合が可変の可変絞り装置40を設けておき、この可変絞り装置40における絞り度合を予め定められた度合まで大きくした状態でイオン注入を開始し、その後、注入室10内の圧力が予め定められた値よりも上昇しない範囲内で当該絞り度合を徐々に小さくすることを特徴とする。注入室10内の圧力は真空計32によって計測する。可変絞り装置40における絞り度合の上記のような制御は、制御装置34によって行う。
請求項（抜粋）：
注入室内で回転および並進させられるウェーハディスクに装着された複数枚のレジスト付のウェーハに位置の固定されたイオンビームを照射してイオン注入を行う方法において、前記ウェーハディスクの上流側に、そこを通過するイオンビームを絞るものであってその絞り度合が可変の可変絞り装置を設けておき、この可変絞り装置における絞り度合を予め定められた度合まで大きくした状態でイオン注入を開始し、その後、注入室内の圧力が予め定められた値よりも上昇しない範囲内で当該絞り度合を徐々に小さくすることを特徴とするイオン注入方法。
IPC (2件)：
H01J 37/317
, H01L 21/265
