特許

J-GLOBAL ID：200903032871276239

半導体露光装置

発明者： 中村 元
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-017169
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186077
出願日： 1996年01月05日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 エキシマレ-ザ-を用いる半導体露光装置のように不活性ガスを用いる装置において、オペレ-タ-やサ-ビスマンの作業ミス、作業モレがあっても自動で人身への危険を回避すること、及び光学系の性能低下させる現象を未然に防ぎ、装置の稼働率を上げること。【解決手段】 エキシマレ-ザ-を用いた半導体露光装置において、該露光装置のエキシマレ-ザ-光路中に不活性ガスを充填し、該充填した光路中に前記不活性ガスの充填度を測定するセンサ-と、不活性ガスを充填した光路のカバ-の開閉状態を確認するセンサ-、不活性ガスの流入を制御する電磁開閉弁を備え、前記カバ-のセンサ-の開閉状態に応じて前記電磁開閉弁の制御状態を変更することを特徴とする半導体露光装置。

請求項（抜粋）：

不活性ガスを筐体内に充填して作動させる半導体製造装置において、前記筐体内の所定の部分の該不活性ガスの充填状態を検出し、該検出状態に応じて前記筐体の作動状態を制御することを特徴とする半導体露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 502 G ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 F

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 気体純度情報の測定方法とこれを用いたチャンバ装置と露光装置、並びにデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-153623   出願人：キヤノン株式会社