特許

J-GLOBAL ID：200903032904720636

透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法

発明者： 太田 裕道 ,  森田 清 ,  折田 政寛 ,  細野 秀雄 ,  川副 博司
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-194731
公開番号（公開出願番号）：特開2000-026119
出願日： 1998年07月09日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：

【要約】【課題】 単結晶性が高く、かつ格子欠陥も少ない、表面抵抗率が低く、かつ450〜800nmにおける可視光線透過率に優れた亜鉛-インジウム系酸化物系の導電性薄膜を有する物品及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 亜鉛-インジウム系酸化物をターゲットとして、レーザーアブレーション法により、基板の少なくとも一方の面の少なくとも一部に導電性酸化物薄膜を形成することを含む導電性酸化物薄膜を有する物品の製造方法。この製造方法により形成された導電性酸化物薄膜を有する物品。

請求項（抜粋）：

亜鉛-インジウム系酸化物をターゲットとして、レーザーアブレーション法により、基板の少なくとも一方の面の少なくとも一部に導電性酸化物薄膜を形成することを含む導電性酸化物薄膜を有する物品の製造方法。

IPC (3件)：

C01G 15/00 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34

FI (3件)：

C01G 15/00 B ,  C23C 14/08 D ,  C23C 14/34 A

Fターム (11件)：

4K029AA08 ,  4K029BA44 ,  4K029BA45 ,  4K029BA49 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029BD01 ,  4K029CA02 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20 ,  4K029DC05