特許

J-GLOBAL ID：200903032905271134

レーザ加熱装置

発明者： 渡辺 徹 ,  千葉 貴志 ,  寺田 昌男
出願人/特許権者： 坂口電熱株式会社
代理人 (2件)： 澤木 誠一 ,  澤木 紀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-042927
公開番号（公開出願番号）：特開2006-229075
出願日： 2005年02月18日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：

【課題】 従来のレーザ加熱装置は半導体基板等の被加熱物を所望の加熱分布で加熱することができないという欠点があった。【解決手段】 本発明のレーザ加熱装置は、レーザ光源と、このレーザ光源から出るレーザー光をリング状に集光せしめる曲面レンズとよりなる。上記曲面レンズは半径方向断面が凸レンズ状のリング体より成る円板状レンズである。上記リング体が同心円状に半径方向に複数隣接されている。上記各リング体の断面形状が互いに異なる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

レーザ光源と、このレーザ光源から出るレーザー光をリング状に集光せしめる曲面レンズとよりなることを特徴とするレーザ加熱装置。

IPC (2件)：

H01L 21/268 ,  H01S 5/00

FI (2件)：

H01L21/268 J ,  H01S5/00

Fターム (3件)：

5F173AR96 ,  5F173MA08 ,  5F173MF39

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 半導体レーザ加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-064888   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-154484
  
• レーザ加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-348644   出願人：ファナック株式会社