特許
J-GLOBAL ID：200903032936952687

光偏向素子及びそれを用いた画像形成装置

発明者：
梨本 恵一

梨本 恵一 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (1件)： 森岡 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-355123
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186419
出願日： 1996年12月20日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】【課題】 薄膜光導波路を用いたプリズム型光偏向素子において、高速性と低駆動電圧特性を維持させながら、光ビーム偏向角度の対称性を改善し、光ビーム径の均一性を偏向角度によらず一定の範囲に保つこと。【解決手段】 導電性または半導電性からなる単結晶基板である下部電極11と、この単結晶基板表面上に形成されたエピタキシャルまたは単一配向性の薄膜光導波路12と、この薄膜光導波路12上に設けられ導電性薄膜または半導電性薄膜からなる複数の上部電極13と、下部電極11と上部電極13との間に所定の電圧を印加して、薄膜光導波路に対して単結晶基板表面と略平行に入射される光ビームの中心線に対して幾何学的に対称に配置され、少なくとも一組の互いに平行ではない界面を有するプリズム形状の屈折率変化領域14を発生させることによって、薄膜光導波路から光ビームを単結晶基板表面と略平行な面内に偏向して出射する電圧印加手段とを備えている。
請求項（抜粋）：
導電性または半導電性の単結晶基板からなる下部電極と、前記単結晶基板表面上に形成されたエピタキシャルまたは単一配向性の薄膜光導波路と、前記薄膜光導波路上に設けられ導電性薄膜または半導電性薄膜からなる複数の上部電極と、前記下部電極と前記上部電極との間に所定の電圧を印加して、前記単結晶基板表面に対して略平行に前記薄膜光導波路へ入射する光ビームの中心軸に対して幾何学的に対称に配置される複数のプリズム形状の屈折率変化領域であって、少なくとも一組の互いに平行ではない屈折率変化面を有する前記屈折率変化領域を発生させることによって、前記薄膜光導波路から前記光ビームを前記単結晶基板表面と略平行な面内で偏向して出射する電圧印加手段と、を備えたことを特徴とする光偏向素子。
引用特許：
審査官引用 (4件)
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