特許
J-GLOBAL ID：200903032964746286
ポリマ導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-224660
公開番号（公開出願番号）：特開2003-035834
出願日： 2001年07月25日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：
【要約】【課題】 ポリマ材料を出発材にした低損失で高比屈折率差のポリマ導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 ポリマ材料としてのパリシラン化合物の膜を350°C以上の温度で加熱すると、無機化が進行し、非常に均一で、クラックのない膜となり、かつ超低損失な伝搬損失の膜になることを本発明者が見出した。このような無機化を起こした膜の伝搬損失を評価したところ、無機化が進行すればするほど、すなわち、熱処理温度が高くなるほど、従来のポリマ膜の伝搬損失よりも大幅に低い値を実現できることを見出した。このような熱処理を施すことにより低損失で高比屈折率差のポリマ導波路が得られる。
請求項（抜粋）：
基板の表面に形成された低屈折率層上に250°Cよりも低い温度でポリシラン化合物のポリマ層を形成するポリマ形成工程、該ポリマ層上に所望の光伝搬層パターンの描かれたフォトマスクを配置してそのフォトマスクの上から紫外線を照射し、上記ポリマ層に屈折率の低下したパターンを形成するパターン形成工程、上記ポリマ層上に上記低屈折率層と同程度の屈折率を有する上部クラッド層を形成して導波路とする上部クラッド層形成工程、該導波路を300°Cから380°Cの温度範囲で熱処理する熱処理工程からなることを特徴とするポリマ導波路の製造方法。
Fターム (10件)：
2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA15
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047RA08
, 2H047TA05
, 2H047TA31
, 2H047TA41
