特許
J-GLOBAL ID:200903032965210088

撮像装置、およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 隆久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-223651
公開番号(公開出願番号):特開2008-048293
出願日: 2006年08月18日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
【課題】光学系を簡単化でき、コスト低減を図ることができ、適切な画質の、ノイズの影響が小さい復元画像を得ることが可能な撮像装置、およびその製造方法を提供する。【解決手段】1次画像を形成する光学系110および撮像素子120と、1次画像を高精細な最終画像に形成する画像処理装置140とを含み、光学系110は、光学的伝達関数(OTF)を変調させる光波面変調素子と、光波面変調素子と隣接して配置された絞りと、を有し、絞りアパーチャー径をφとし、絞りと位相変調素子のなす間隔をDとすると、φ×D<2という条件式を満足する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
光学系と、 光学的伝達関数(OTF)を変調させる光波面変調素子と、 前記光波面変調素子と隣接して配置された絞りと、 前記光学系および前記光波面変調素子を通過した被写体像を撮像する撮像素子と、を有し、 絞りアパーチャー径をφ[mm]とし、絞りと光波面変調素子のなす間隔をD[mm]とすると、以下の条件式(1)を満足する 撮像装置。 φ×D<2 ・・・(1)
IPC (2件):
H04N 5/225 ,  G03B 11/00
FI (2件):
H04N5/225 D ,  G03B11/00
Fターム (17件):
2H083AA02 ,  2H083AA08 ,  2H083AA09 ,  2H083AA14 ,  2H083AA26 ,  2H083AA41 ,  2H083AA54 ,  5C122DA04 ,  5C122DA09 ,  5C122EA12 ,  5C122EA55 ,  5C122FB03 ,  5C122GE10 ,  5C122HB01 ,  5C122HB03 ,  5C122HB06 ,  5C122HB10
引用特許:
出願人引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る