特許

J-GLOBAL ID：200903032988575989

フォトニッククリスタルファイバ及びその製造方法

発明者： ▲吉▼田 実 ,  田中 正俊 ,  藤田 盛行 ,  御前 俊和 ,  今村 一雄 ,  中沢 正隆 ,  久保田 寛和 ,  川西 悟基
出願人/特許権者： 三菱電線工業株式会社 ,  日本電信電話株式会社
代理人 (6件)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 宏 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  原田 智雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-312492
公開番号（公開出願番号）：特開2004-102281
出願日： 2003年09月04日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】伝播可能な波長及び分散値が変化し得るフォトニッククリスタルファイバ及びその製造方法を提供する。【解決手段】ファイバの中心軸方向に延びる多数の細孔12aが最密に配列された多孔部12と、該多孔部12の中心に中実状又は中空状に形成されたコア部11とを備えたフォトニッククリスタルファイバであって、上記多孔部12が、ファイバの中心軸回りにねじられて形成されている。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

ファイバの中心軸方向に延びる多数の細孔が最密状に配列された多孔部と、該多孔部の中心に中実状又は中空状に形成されたコア部とを備えたフォトニッククリスタルファイバであって、 上記多孔部が、上記ファイバの中心軸回りにねじられて形成されている ことを特徴とするフォトニッククリスタルファイバ。

IPC (4件)：

G02B6/00 ,  C03B37/012 ,  C03B37/027 ,  G02B6/20

FI (4件)：

G02B6/00 376Z ,  C03B37/012 B ,  C03B37/027 A ,  G02B6/20 Z

Fターム (4件)：

2H050AC62 ,  2H050AC84 ,  4G021BA00 ,  4G021HA00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• シリカスートの押出し成形によるシリカガラスハニカム構造体の製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-599696   出願人：コーニングインコーポレイテッド
• 微細構造光ファイバ含有製品と微細構造光ファイバ製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-134962   出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
• 特開昭61-015108
  
• 特開昭61-015108