特許
J-GLOBAL ID：200903033005054665

磁気記録媒体の製造方法及び製造装置

発明者：
佐々木 和男

佐々木 和男 について

, 
斉藤 修

斉藤 修 について

, 
小野 明史

小野 明史 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-155607
公開番号（公開出願番号）：特開2006-331575
出願日： 2005年05月27日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】ウェット・オン・ドライ方式により、上層の磁性層を50nm以下の薄層に形成する場合において、高配向性を実現し、高い角形比を有する磁気記録媒体を作製する。【解決手段】磁性塗料の塗布を行うダイ(塗布装置)101から、磁場配向処理を行う配向装置Cまでの到達時間を0.05秒以下とし、かつ配向処理における磁場強度を0.8T以上1.6T未満とする。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
支持体上に、下層非磁性層と、膜厚50nm以下の磁性層とが積層形成されている磁気記録媒体の製造方法であって、 前記支持体上に、少なくとも結合剤樹脂と非磁性粒子とを含有する非磁性塗料を塗布し、乾燥処理を施し、下層非磁性層を形成する工程と、 前記下層非磁性層上に、少なくとも結合剤樹脂と磁性粉末とを含有する磁性塗料を塗布する工程と、 配向装置で磁場配向処理を行う工程とを有し、 前記磁性塗料の塗布から、前記磁場配向処理までの到達時間が0.05秒以下であり、 前記磁場配向処理における磁場強度が0.8T以上1.6T未満であり、 最終的に得られる磁気記録媒体の角形比を85%以上とすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
G11B 5/845 ,  B05D 5/12
FI (2件)：
G11B5/845 Z ,  B05D5/12 A
Fターム (27件)：
4D075AC04 ,  4D075AC72 ,  4D075AE06 ,  4D075AE27 ,  4D075BB24Y ,  4D075BB91Z ,  4D075BB95Z ,  4D075BB99Z ,  4D075CA24 ,  4D075DA04 ,  4D075DB33 ,  4D075DB36 ,  4D075DB38 ,  4D075DB48 ,  4D075DB53 ,  4D075DC28 ,  4D075EB15 ,  4D075EB35 ,  5D112AA05 ,  5D112AA22 ,  5D112BB01 ,  5D112BB08 ,  5D112BB09 ,  5D112CC19 ,  5D112CC20 ,  5D112DD04 ,  5D112DD08
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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