特許

J-GLOBAL ID：200903033012499109

プラズマ処理装置およびその方法

発明者： 田村 仁 ,  渡辺 成一 ,  古瀬 宗雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078934
公開番号（公開出願番号）：特開平9-270386
出願日： 1996年04月01日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】本課題は、直径12インチ(約300mm)以上の大きな被処理基板に均一にプラズマ処理を行うことができるようにしたプラズマ処理装置およびその方法を提供することにある。【解決手段】本発明は、マイクロ波導波管で伝送されたマイクロ波を伝送する同軸線路部702と、該同軸線路部の空洞共振器側に設けられ、同軸線路部と空洞共振器との境界付近において生じるマイクロ波電力の反射を低減する整合室703と、前記同軸線路部702に前記整合室703を介して同軸状に接続して同軸線路部から伝送されたマイクロ波を共振させる空洞共振器704と、被処理基板106を載置する基板電極を内部に設置した処理室103と、前記空洞共振器からマイクロ波電磁界をマイクロ波導入窓705を通して前記処理室内に放射して前記被処理基板に対向する領域にリング状のプラズマを発生させるマイクロ波電磁界放射手段706とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置である。

請求項（抜粋）：

マイクロ波源と、該マイクロ波源から放射したマイクロ波を伝送するマイクロ波導波管と、該マイクロ波導波管で伝送されたマイクロ波を共振させる空洞共振器と、被処理基板を載置する基板電極を内部に設置した処理室と、前記空洞共振器の中心軸付近を中心にして角度成分を有するマイクロ波電磁界を前記空洞共振器からマイクロ波導入窓を通して前記処理室内に放射して前記被処理基板に対向する領域にリング状のプラズマを発生させるマイクロ波電磁界放射手段とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/203 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

H01L 21/203 S ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 C ,  H01L 21/302 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマプロセス装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-254939   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-262119
  
• マイクロ波プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-273318   出願人：キヤノン株式会社
• プラズマ処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-277934   出願人：松下電器産業株式会社