特許

J-GLOBAL ID：200903033024630553

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 高橋 表 ,  樽谷 晋司
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-297923
公開番号（公開出願番号）：特開2006-113135
出願日： 2004年10月12日
公開日（公表日）： 2006年04月27日
要約：

【課題】 裾引き、トップの表面荒れを抑制し、矩形のトップが得られる、優れたパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)芳香族基を含有し、塩基性窒素原子を含有しない有機溶剤、及び、(D)芳香族基を含有しない有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物 (C)芳香族基を含有し、塩基性窒素原子を含有しない有機溶剤 (D)芳香族基を含有しない有機溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (12件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 電子写真感光体の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-002126   出願人：株式会社リコー
• 感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-308997   出願人：日立化成工業株式会社, 株式会社日立製作所