特許

J-GLOBAL ID：200903033098535374

スパッタリングターゲット材およびその製造方法

発明者： 長野 昌三 ,  鴨下 康夫
出願人/特許権者： 菱化マッセイ株式会社
代理人 (1件)： 岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-223185
公開番号（公開出願番号）：特開平11-050244
出願日： 1997年08月05日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】チタンから構成され且つターゲット材として使用した場合に形成されるチタン薄膜のパーティクルが少ないスパッタリングターゲット材及びその製造方法を提供する。【解決手段】チタンを水素化した後、β相または(α+β)相結晶構造の状態で塑性加工を行ない、その後、脱水素および熱処理することにより、チタンから構成され且つ内部の結晶粒の平均粒径が0.1〜5μmであるターゲット材を得る。

請求項（抜粋）：

チタンから構成され且つその結晶粒の平均粒径が0.1〜5μmであることを特徴とするスパッタリングターゲット材。

IPC (7件)：

C23C 14/34 ,  C22F 1/18 ,  C22F 1/00 613 ,  C22F 1/00 680 ,  C22F 1/00 685 ,  C22F 1/00 686 ,  C22F 1/00 694

FI (7件)：

C23C 14/34 A ,  C22F 1/18 H ,  C22F 1/00 613 ,  C22F 1/00 680 ,  C22F 1/00 685 Z ,  C22F 1/00 686 Z ,  C22F 1/00 694 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• スパッタリング用チタンターゲットおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-331110   出願人：日立金属株式会社
• 特開平4-116161