特許

J-GLOBAL ID：200903033110222689

回転式基板洗浄装置

発明者： 西村 讓一 ,  佐々木 忠司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-102973
公開番号（公開出願番号）：特開平8-267023
出願日： 1995年04月03日
公開日（公表日）： 1996年10月15日
要約：

【要約】【目的】 簡単な構成で、基板に対して所定の押圧力を付与できるようにする。【構成】 基板Wを鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段4を構成する回転軸2に、回転台3に代えて筒部材32を取り付け、その筒部材32に連接した支持ブラケット33に、洗浄ブラシを受け止めて洗浄ブラシからの押圧荷重を測定する荷重計34を載置する。このとき、荷重計34の感圧部36の上面が、基板保持手段4によって保持される基板Wの表面と同一レベルになるように予め設定され、実際に処理する基板Wと同様の位置で基板Wにかかる押圧力を測定する。

請求項（抜粋）：

基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面を洗浄する洗浄具と、前記洗浄具を基板表面に沿って水平方向に変位する洗浄具移動手段と、前記洗浄具を昇降する洗浄具昇降手段と、基板表面の前記洗浄具による洗浄箇所に洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えた回転式基板洗浄装置において、前記基板保持手段によって保持される基板の表面と同一レベルで前記洗浄具を受け止めて前記洗浄具からの押圧荷重を測定する荷重測定手段を備えたことを特徴とする回転式基板洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B 1/00 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

B08B 1/00 ,  H01L 21/304 341 B ,  H01L 21/304 341 C

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-122954   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社