特許
J-GLOBAL ID：200903047297414110
洗浄方法及び洗浄装置
出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社
, 東京エレクトロン株式会社 について
東京エレクトロン九州株式会社
東京エレクトロン九州株式会社 について
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-122954
公開番号（公開出願番号）：特開平7-307321
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：
【要約】【目的】 適宜の洗浄体を被洗浄処理体の洗浄対象面に接触させ、その状態で被洗浄処理体又は/及び洗浄体を運動させて当該洗浄対象面を洗浄するにあたり、当該洗浄対象面に対してダメージを与えない。【構成】 モータなどの回転駆動機構によって回転し、かつエアシリンダ34によって上下動するシャフト41の下端部に、洗浄体51を設ける。洗浄体51を被洗浄処理体の洗浄対象面に接触させるにあたり、エアシリンダ34の推力の調整により、その接触圧を60gf以下となるようにして、洗浄を実施する。
請求項（抜粋）：
被洗浄処理体の洗浄対象面の裏面側からこの被洗浄処理体を保持し、適宜の洗浄体を前記洗浄対象面に接触させ、その状態で被洗浄処理体又は/及び洗浄体を運動させて前記被洗浄処理体の洗浄対象面を洗浄するにあたり、洗浄体と被洗浄処理体の洗浄対象面との接触圧が、60gf以下になるようにして洗浄することを特徴とする、洗浄方法。
IPC (3件)：
引用特許：
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