特許

J-GLOBAL ID：200903033155185962

気化器並びにこれを用いた液体気化供給装置

発明者： 谷奥 正巳
出願人/特許権者： 株式会社リンテック
代理人 (1件)： 森 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-349748
公開番号（公開出願番号）：特開2005-113221
出願日： 2003年10月08日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：

【課題】 気化室内における残渣の発生を防止するとともに、不安定な原料でも安定的に気化配給する気化器、およびこれを用いた気化供給装置を提供する。【解決手段】 液体原料配給口42の先端から、液体原料配給口42と対向する気化室30の底面30aまでの距離Hが十分に長く設定され、液体原料配給口42の周囲からキャリアガスCGが噴射される。したがって、気化室30の底面30aにおける温度低下は認められず、また、液体原料Lが気化室30の底面30aに衝突する面積を十分に大きくとることができる。また、気化室30を加熱する加熱手段が上部ヒータ10と下部ヒータ11とで構成されているので、気化室上部30Aと気化室下部30Bとを個別に温度設定できる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

(a) 質量流量制御されて供給された液体原料を気化するための気化室と、 (b) 前記気化室内に向けて液体原料を噴射する液体原料配給口と、 (c) 前記液体原料配給口の周囲に配設され、前記気化室内に向けてキャリアガスを噴射するキャリアガス配給口と、 (d) 前記気化室内に供給された液体原料を気化させるための加熱手段とを備える気化器において、 (e) 前記液体原料配給口の先端から前記液体原料配給口と対向する前記気化室の底面までの距離は、少なくとも前記キャリアガス配給口から噴射されたキャリアガスが前記気化室の底面に直接衝突することにより前記底面の表面温度が設定温度以下に冷却し始める距離よりも長く設定されていることを特徴とする気化器。

IPC (2件)：

C23C16/448 ,  H01L21/31

FI (2件)：

C23C16/448 ,  H01L21/31 B

Fターム (12件)：

4K030AA11 ,  4K030BA10 ,  4K030EA01 ,  4K030JA03 ,  4K030JA05 ,  4K030JA10 ,  4K030KA25 ,  5F045AA04 ,  5F045AA06 ,  5F045AB31 ,  5F045EE02 ,  5F045EE14

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 気化器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-292758   出願人：株式会社島津製作所, 三菱電機株式会社