特許
J-GLOBAL ID：200903033164148174
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-254939
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124822
出願日： 1994年10月20日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】 薄膜から形成されたペリクルに換えて、ガラス板を使用してマスクパターン面に塵埃が付着するのを防止すること。【構成】 光照射部1、マスクM、マスクステージ2、投影レンズ3、ワークW等から構成される投影露光装置において、投影レンズ3を両テレセントリックレンズとし、また、上記マスクステージ2にマスクMと平行にガラス板11を配置してマスクのパターンを形成された面とガラス板とで閉空間を形成し、マスクパターン面への塵埃の付着を防止する。投影レンズ3を両テレセントリックレンズとしているので、主光線がガラス板11を垂直に通過し、厚いガラス板を用いても光学的収差が発生しない。また、上記閉空間にガスを流したり、また、イオン化されたガスを上記閉空間に導入してマスクの帯電を防止する等の手段を併用することにより、塵埃の付着を大幅に減少させることができる。
請求項（抜粋）：
紫外線を照射する光照射部と、マスクと、該マスクを保持するマスクステージを含むマスクステージ部と、投影レンズと、ワークと、該ワークを保持するワークステージを含むワークステージ部とからなる投影露光装置において、上記投影レンズは両テレセントリックレンズであり、上記マスクステージは、マスクと平行に配置されたガラス板を含み、上記マスクのパターンを形成された面と、上記マスクステージと、上記ガラス板とで閉空間を形成することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
