真空中処理基板検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-067357
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264606
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【構成】処理した基板を搬送アーム21で検査チャンバ24へ搬送し、位置決めを観察-アライメント光学系25で確認する。検査チャンバ上の検査装置40の照明系42のレーザをチャンバ内部へ導入用の窓46を通して照明する。基板表面上で反射した異物からの散乱光をチャンバ外部へ導出用の窓47を通し検出系41の検出器49で受光する。安定して検出するために、基板の高さ位置を検知する自動焦点機構部55と、自動焦点機構に同期させて検査装置の検出系の検出器及びウエハ及び上下移動させる高さ位置決め部60を設置した。次に位置決め部の基板の位置座標に基づいて別のチャンバでは、検出した基板表面上の欠陥・異物や外観不良の形状を走査電子顕微鏡部で観察し、異物等の元素分析を異物解析部26で行う。【効果】真空中連続プロセスで各処理工程の基板を検査できるので、各工程の管理は勿論のこと処理装置のモニタリングが可能となり、異物の発生原因をいち早く検知することができる。

請求項（抜粋）：

複数の処理室を備えたマルチチャンバタイプの真空中連続プロセス処理装置において、前記各処理室で処理した基板を搬送する搬送アームと、搬送した基板を位置決めする基板位置決め部と、基板の表面を検査する専用の検査チャンバとを設け、前記検査チャンバは基板の位置確認用の観察-アライメント光学系と、照明系と検出系とから成る検査装置を装備し、前記検査チャンバには照明系からのレーザをチャンバ内部へ導入用の窓と、基板表面上で反射した異物からの散乱光をチャンバ外部へ導出用の窓を設け検出系の検出器で受光し、常に基板の高さ位置を検知する自動焦点機構部と、前記自動焦点機構部に同期させて基板及び前記検査装置を上下移動させる高さ位置決め部とから構成したことを特徴とする真空中処理基板検査装置。

IPC (3件)：

H01L 21/66 , G01N 37/00 , H01J 37/28

FI (3件)：

H01L 21/66 J , G01N 37/00 A , H01J 37/28 Z

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-352447
特開昭63-190348
特開昭63-014440

全件表示

前のページに戻る