特許
J-GLOBAL ID：200903033268470590
非線形光学材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-206536
公開番号（公開出願番号）：特開平8-069023
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：
【要約】【構成】 高分子マトリックス中に、光照射若しくは光照射と熱処理との組合せにより可逆的又は非可逆的に光吸収変化を示す化合物を、材料全重量に基づき30〜90重量%の割合で含有させて成る非線形光学材料である。【効果】 高速で二次元空間での非線形光学特性を制御することが可能であり、かつ経時安定性及び加工性に優れ、オプトエレクトロニクスや将来の光コンピュータなどの基幹素材として有用である。
請求項（抜粋）：
高分子マトリックス中に、光照射若しくは光照射と熱処理との組合せにより可逆的又は非可逆的に光吸収変化を示す化合物を、材料全重量に基づき30〜90重量%の割合で含有させたことを特徴とする非線形光学材料。
IPC (2件)：
引用特許：
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