特許

J-GLOBAL ID：200903033310127079

磁気ヘッドならびにその製造方法および製造装置

発明者： 川浪 義実 ,  高野 公史 ,  梅村 馨 ,  間所 祐一 ,  富松 聡
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-103617
公開番号（公開出願番号）：特開平10-055506
出願日： 1997年04月21日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：

【要約】【課題】 狭トラック幅を有する低コストの磁気ヘッドならびその製造方法および製造装置を提供すること。【解決手段】 磁気ヘッドのヘッド磁極11、12のトラック幅を決定する一対の溝加工6、7において、上記一対の溝のパターンを持つマスクを縮小投射するイオンビームを形成できる装置を作り、この投射イオンビームを照射することによって磁気ヘッドの狭トラック化加工を行う。この投射イオンビームを用いると、ビームの中心部が高精度に加工でき、かつ同じ精度を出せる集束イオンビームに比較して、全イオンビーム電流が一桁以上大きくできる。

請求項（抜粋）：

磁気記録媒体への磁気情報の記録、再生動作を行う磁気ヘッドにおいて、該磁気ヘッドの該媒体との摺動面の一部に一つ以上の溝が設けられており、この溝はマスクを縮小投射するイオンビームを照射することにより加工されていることを特徴とする磁気ヘッド。

IPC (4件)：

G11B 5/187 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/31 ,  G11B 5/39

FI (5件)：

G11B 5/187 S ,  G11B 5/127 S ,  G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 荷電粒子投射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-212376   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-296907
  
• 試料加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-300322   出願人：セイコー電子工業株式会社