特許
J-GLOBAL ID：200903033358520961
ナノインプリント用スタンパ、ナノインプリント用スタンパの製造方法、およびナノインプリント用スタンパの表面処理剤
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
磯野 道造
, 多田 悦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-012128
公開番号（公開出願番号）：特開2008-178984
出願日： 2007年01月23日
公開日（公表日）： 2008年08月07日
要約：
【課題】本発明の課題は、剥離層をスタンパ表面に簡便に形成することが可能であり、かつ多数回に渡って連続して転写が行われても剥離性の劣化が少ない耐久性に優れたナノインプリント用スタンパを提供することにある。【解決手段】被転写体に転写する微細パターンが表面に形成されているスタンパ2において、前記表面に含フッ素ポリエーテル102が付与されており、前記含フッ素ポリエーテル102の両末端のうち少なくとも片末端は前記表面と化学的に結合しているとともに、前記含フッ素ポリエーテル102を構成するフルオロポリエーテル鎖は、パーフルオロポリエーテル鎖の主鎖のフッ素原子の一部が水素原子に置換されてなることを特徴とする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被転写体に転写する微細パターンが表面に形成されているナノインプリント用スタンパにおいて、
前記表面に含フッ素ポリエーテルが付与されており、前記含フッ素ポリエーテルの両末端のうち少なくとも片末端は前記表面と化学的に結合しているとともに、前記含フッ素ポリエーテルを構成するフルオロポリエーテル鎖は、パーフルオロポリエーテル鎖の主鎖のフッ素原子の一部が水素原子に置換されたものであって、その水素置換率が原子百分率で、0.1%以上、10%以下であることを特徴とするナノインプリント用スタンパ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/02 B
, H01L21/30 502D
4F209AA16
, 4F209AA32
, 4F209AJ02
, 4F209AJ03
, 4F209AJ08
, 4F209AJ09
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN01
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046BA10
