露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-151985
公開番号（公開出願番号）：特開平10-340846
出願日： 1997年06月10日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】、連続的な結像性能の補正を振動を伴うことなく可能とすること、或いは投影光学系の開口数の増大及び結像性能の補正を両立すること【解決手段】レチクルR上に設けられたパターンを照明する照明光学系ILと、このパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系Tとを有し、投影光学系と感光性基板との間の光路中の少なくとも一部分に位置する液体LQを介して露光を行う露光装置であって、液体の屈折率を調整するための屈折率調整手段を有する。

請求項（抜粋）：

レチクル上に設けられたパターンを照明する照明光学系と、該パターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを有し、前記投影光学系と前記感光性基板との間の光路中の少なくとも一部分に位置する液体を介して露光を行う露光装置において、前記液体の屈折率を調整するための屈折率調整手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

液浸式投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-339510 出願人：キヤノン株式会社
液浸式投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-296518 出願人：キヤノン株式会社
特開昭62-065326

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