特許
J-GLOBAL ID:200903033441016680

高Si鋼のレーザー溶接方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 穂上 照忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-092607
公開番号(公開出願番号):特開平5-305466
出願日: 1992年04月13日
公開日(公表日): 1993年11月19日
要約:
【要約】【構成】高Si鋼を溶接するに際し、Niを主成分とするフィラー材を用い、溶接金属の化学組成が下記 (1)式を満足するように溶接を行う。なお、ビード余盛及び裏波の突出が発生した場合は研削等により除去するのが望ましい。 X=[%Ni]-[%Si]×2.5 -([%Cr]+[%Mo])×0.4 ≧0・・(1) ただし、[%Ni]、[%Si]、[%Cr]および[%Mo]は、それぞれ、溶接金属中のNi、Si、CrおよびMoの含有量(重量%)を表す。【効果】靱性に優れた溶接継手を得ることができ、コイル継ぎ溶接が可能となるので、熱間圧延から冷間圧延に至る工程を連続化し、製板プロセスを合理化することができる。
請求項(抜粋):
高Si鋼を溶接するに際し、Niを主成分とするフィラーワイヤを用い、あるいはNiを主成分とする粉末フィラーを供給して溶接金属の化学組成が下記 (1)式を満足するように溶接を行うことを特徴とする高Si鋼のレーザー溶接方法。 X=[%Ni]-[%Si]×2.5 -([%Cr]+[%Mo])×0.4 ≧0・・(1) ただし、[%Ni]、[%Si]、[%Cr]および[%Mo]は、それぞれ、溶接金属中のNi、Si、CrおよびMoの含有量(重量%)を表す。
IPC (5件):
B23K 26/00 310 ,  B21B 15/00 ,  B21C 47/26 ,  C22C 38/00 303 ,  B23K101:16
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 解放自在のロック機構
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平2-414180   出願人:エー.シー.イノベイションズ,インコーポレイテッド

前のページに戻る