特許

J-GLOBAL ID：200903033462526041

ステージ装置、座標測定装置および位置測定方法

発明者： 大久保 至晴
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 古谷 史旺 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-066787
公開番号（公開出願番号）：特開平10-260008
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、反射鏡の線対称なたわみ以外の成分についても真直度補正を可能にするステージ装置、座標測定装置および位置測定方法を提供することを目的とする。【解決手段】 反射鏡33を有する試料台32をステージ35に載置し、反射鏡33に照射されるレーザ光の干渉を利用してステージ35の位置を測定し、ステージ位置データを取得するステージ装置において、平面度を測定する外部の平面度測定装置に試料台32を載置して取得される反射鏡33の平面度についての第1平面度データを用い、ステージ位置データを補正する補正処理部37を備えることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

反射鏡を有する試料台をステージに載置し、前記反射鏡に照射されるレーザ光の干渉を利用して前記ステージの位置を測定し、ステージ位置データを取得するステージ装置において、平面度を測定する外部の平面度測定装置に前記試料台を載置して取得される前記反射鏡の平面度についての第1平面度データを用い、前記ステージ位置データを補正する補正処理部を備えることを特徴とするステージ装置。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G01B 21/00 ,  G12B 5/00

FI (3件)：

G01B 11/00 G ,  G01B 21/00 G ,  G12B 5/00 T

引用特許：

出願人引用 (2件)

• パターン位置計測装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-161491   出願人：株式会社ニコン
• 座標測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-045564   出願人：株式会社ニコン