特許
J-GLOBAL ID:200903033476307245
固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-400382
公開番号(公開出願番号):特開2002-158144
出願日: 2000年12月28日
公開日(公表日): 2002年05月31日
要約:
【要約】【課題】 固体電解質層形成時に発生する残渣により性能が低下することを解決し、優れた性能の製品を得ることができる固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサを提供することを目的とする。【解決手段】 複素環式化合物およびその誘導体からなるモノマーを含む溶液を陽極体の外表面に形成された誘電体酸化皮膜層上に被覆させ、続いてこのモノマーを含む溶液中のモノマーを重合することにより重合膜を形成し、続いてこの重合膜の残渣を除去するためのシャワー洗浄を行った後、乾燥することにより導電性高分子からなる固体電解質層を形成し、この上に陰極層を形成するようにした製造方法とすることにより、生産性を向上させ、信頼性の高い製品を安定して製造することが可能になる。
請求項(抜粋):
弁作用金属粉末を成形、焼結した多孔質の陽極体の外表面に誘電体酸化皮膜層を形成する誘電体酸化皮膜層形成工程と、複素環式化合物およびその誘導体からなるモノマーを含む溶液を上記誘電体酸化皮膜層上に被覆させ、続いてこのモノマーを含む溶液中のモノマーを重合することにより重合膜を形成し、続いてこの重合膜に残存する残渣を除去するための洗浄を行った後、これを乾燥することにより導電性高分子からなる固体電解質層を形成する第1の固体電解質層形成工程と、上記固体電解質層上に陰極層を形成する陰極層形成工程からなる固体電解コンデンサの製造方法。
IPC (5件):
H01G 9/028
, H01G 9/032
, H01G 9/052
, H01G 9/04
, H01G 9/00
FI (6件):
H01G 9/02 331 H
, H01G 9/02 321
, H01G 9/02 331 F
, H01G 9/05 K
, H01G 9/05 H
, H01G 9/24 C
引用特許:
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