特許

J-GLOBAL ID：200903033485226614

光走査装置、画像形成装置およびビーム間隔補正方法

発明者： 天田 琢
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 丸山 隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-322878
公開番号（公開出願番号）：特開2005-091570
出願日： 2003年09月16日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】 被走査面でのビームピッチの間隔(走査位置)の変動を補正する光走査装置、画像形成装置およびビーム間隔補正方法を提供する。【解決手段】 ピッチ検出センサ19は、被走査面16方向に照射される複数ビーム間隔をN回検出する。制御部22は、その検出された複数ビーム間隔に基づいて、その複数ビーム間隔の真値を推定し、その複数ビーム間隔の推定値と、複数ビーム間隔の目標値とに基づいて、複数ビーム間隔の補正値を算出する。楔形状プリズム28a、28bは、その算出された補正値に基づいて、複数ビーム間隔を補正する。光走査装置18は、上述した複数ビーム間隔の検出動作、複数ビーム間隔の推定動作、複数ビーム間隔の補正値の算出動作、複数ビーム間隔の補正動作を、順に繰り返して、複数レーザの間隔の補正処理を実行し、複数ビーム間隔の検出動作、複数ビーム間隔の推定動作、複数ビーム間隔の補正値の算出動作のうちの少なくとも1つが、複数ビーム間隔の補正動作と同時に実行される。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

複数のレーザ光源からそれぞれ射出されるレーザビームを偏向器により周期的に偏向させ、副走査方向に移動する被走査媒体における一様に帯電した被走査面上を、前記副走査方向と直交する主走査方向に走査して、前記被走査面上に静電潜像を形成する光走査装置であって、 前記被走査面方向に照射される複数ビーム間隔をN回検出するピッチ検出手段と、 前記ピッチ検出手段により検出された複数ビーム間隔に基づいて、前記複数ビーム間隔の真値を推定する第一の演算手段と、 前記第一の演算手段による複数ビーム間隔の推定値と、複数ビーム間隔の目標値とに基づいて、前記複数ビーム間隔の補正値を算出する第二の演算手段と、 前記第二の演算手段により算出された補正値に基づいて、前記複数ビーム間隔を補正するピッチ補正手段とを有し、 前記ピッチ検出手段による複数ビーム間隔の検出動作、前記第一の演算手段による複数ビーム間隔の推定動作、前記第二の演算手段による複数ビーム間隔の補正値の算出動作、前記ピッチ補正手段による複数ビーム間隔の補正動作が、順に繰り返され、 前記複数ビーム間隔の検出動作、前記複数ビーム間隔の推定動作、前記複数ビーム間隔の補正値の算出動作のうちの少なくとも1つが、前記複数ビーム間隔の補正動作と同時に実行されることを特徴とする光走査装置。

IPC (3件)：

G02B26/10 ,  B41J2/44 ,  H04N1/113

FI (3件)：

G02B26/10 B ,  B41J3/00 M ,  H04N1/04 104A

Fターム (25件)：

2C362AA03 ,  2C362AA13 ,  2C362BA04 ,  2C362BA50 ,  2C362BA51 ,  2C362BA71 ,  2C362BA89 ,  2C362BB46 ,  2H045AA01 ,  2H045BA22 ,  2H045BA33 ,  2H045CA88 ,  2H045CA95 ,  2H045CB65 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072BA04 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA08 ,  5C072HA13 ,  5C072HA16 ,  5C072HB08 ,  5C072XA01 ,  5C072XA05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特公平6-94215号公報
  
• 画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-041089   出願人：コニカ株式会社