特許
J-GLOBAL ID:200903033574265003
ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高田 幸彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-237798
公開番号(公開出願番号):特開2001-166484
出願日: 2000年08月04日
公開日(公表日): 2001年06月22日
要約:
【要約】【課題】本発明は、感度や解像度に優れ大気中に微量に存在する塩基性成分の影響の少ない耐熱性のポジ型感光性樹脂組成物、それを用いたパターンの製造法及び電子部品を提供するものである。【解決手段】(A)分子中に、芳香環に結合しかつ-OR(但しRは酸の作用で分解し水素原子に変換し得る、一価のアセタール若しくはケタールを構成する基、アルコキシアルキル基又はアルキルシリル基を示す)で示される基を有するポリイミド前駆体又はポリオキサゾール前駆体、(B)放射線照射により酸を発生する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品。
請求項(抜粋):
(A)分子中に、芳香環に結合しかつ-OR(但しRは酸の作用で分解し水素原子に変換し得る、一価のアセタール若しくはケタールを構成する基、アルコキシアルキル基又はアルキルシリル基を示す)で示される基を有するポリイミド前駆体又はポリオキサゾール前駆体、(B)放射線照射により酸を発生する化合物を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (7件):
G03F 7/039 601
, C08G 73/06
, C08K 5/00
, C08L 79/04
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
, H01L 21/312
FI (8件):
G03F 7/039 601
, C08G 73/06
, C08K 5/00
, C08L 79/04 Z
, G03F 7/075 511
, H01L 21/312 B
, H01L 21/312 D
, H01L 21/30 502 R
Fターム (59件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 4J002CM021
, 4J002CM041
, 4J002EH146
, 4J002EQ016
, 4J002ES006
, 4J002EV246
, 4J002EV286
, 4J002EV296
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J043PA19
, 4J043PC065
, 4J043PC115
, 4J043QB31
, 4J043QB33
, 4J043RA02
, 4J043RA05
, 4J043SA06
, 4J043SA42
, 4J043SA47
, 4J043TA21
, 4J043TA22
, 4J043TA71
, 4J043TA74
, 4J043TA75
, 4J043UA022
, 4J043UA121
, 4J043UA122
, 4J043UA131
, 4J043UA132
, 4J043UB121
, 4J043UB122
, 4J043UB281
, 4J043UB401
, 4J043UB402
, 4J043ZA12
, 4J043ZB22
, 5F058AC02
, 5F058AC07
, 5F058AD04
, 5F058AD08
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AG09
引用特許: