特許
J-GLOBAL ID：200903033581592567
ガス浄化装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
波多野 久
, 関口 俊三
, 猿渡 章雄
, 古川 潤一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-138831
公開番号（公開出願番号）：特開2005-320895
出願日： 2004年05月07日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
【課題】浄化対象ガスのガス流路をより広く確保し、より大容量の浄化対象ガスから有害物質を加熱することなく低温でより効率的に除去して浄化対象ガスを浄化することが可能なガス浄化装置である。【解決手段】ガス浄化装置1は、浄化対象ガスXが流れるガス流路10に放電用の電界を形成して放電プラズマYを生成し、前記浄化対象ガスXに含まれる粒子状物質PMを前記放電プラズマYの作用により荷電するとともに燃焼処理させる第1の電界形成手段3a,4、7、8と、電気的集塵機能により前記荷電された粒子状物質を捕捉するとともに前記放電プラズマYを前記ガス流路10側に引出すための集塵用の電界を形成する第2の電界形成手段3b,5、7、9とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
浄化対象ガスが流れるガス流路に放電用の電界を形成して放電プラズマを生成し、前記浄化対象ガスに含まれる粒子状物質を前記放電プラズマの作用により荷電するとともに燃焼処理させる第1の電界形成手段と、電気的集塵機能により前記荷電された粒子状物質を捕捉するとともに前記放電プラズマを前記ガス流路側に引出すための集塵用の電界を形成する第2の電界形成手段とを有することを特徴とするガス浄化装置。
IPC (10件)：
F01N3/02
, B03C3/02
, B03C3/38
, B03C3/40
, B03C3/60
, B03C3/66
, B03C3/74
, F01N3/08
, F01N3/24
, F01N9/00
F01N3/02 301F
, F01N3/02 321B
, B03C3/02 A
, B03C3/38
, B03C3/40 A
, B03C3/60
, B03C3/66
, B03C3/74 E
, B03C3/74 Z
, F01N3/08 C
, F01N3/24 E
, F01N9/00 Z
3G090AA02
, 3G090AA06
, 3G090BA01
, 3G090DA09
, 3G090DA11
, 3G090EA02
, 3G091AA02
, 3G091AA18
, 3G091AA28
, 3G091AB02
, 3G091AB13
, 3G091AB14
, 3G091BA00
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091BA38
, 3G091BA39
, 3G091CB08
, 3G091DB10
, 3G091EA17
, 3G091GA06
, 3G091HA07
, 3G091HA15
, 3G091HA35
, 3G091HA47
, 4D054AA03
, 4D054BA01
, 4D054BA06
, 4D054BA18
, 4D054BB01
, 4D054BB08
, 4D054BB11
, 4D054BC22
, 4D054CA01
, 4D054CA06
, 4D054CB09
, 4D054DA11
, 4D054DA15
, 4D054DA20
, 4D054EA30
