特許

J-GLOBAL ID：200903033685353912

ダイヤモンドのエッチング方法及びその装置

発明者： 出口 正洋 ,  吉田 哲久 ,  北畠 真 ,  平尾 孝
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社 ,  新技術事業団
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-069944
公開番号（公開出願番号）：特開平8-259400
出願日： 1995年03月28日
公開日（公表日）： 1996年10月08日
要約：

【要約】【目的】 加速した複数個の分子または原子を構成粒子とした粒子塊を減圧雰囲気中でダイヤモンドに照射することにより、ダイヤモンドに損傷を与えることなく、容易に効率よくエッチングを行なう方法及びその装置を提供する。【構成】 粒子塊生成(4)、イオン化(5)、質量分離(6)、加速(7)などの工程をへて生成された粒子塊1は、所定のエネルギーを持った状態で照射工程(8)でダイヤモンド層2に照射される。照射された粒子塊1はダイヤモンド層2と衝突すると個々の分子または原子に分解し、その運動量(方向・速さ)やエネルギーを変え、ダイヤモンドの表層をスパッタリングする。その結果、ダイヤモンドは効率よくエッチングされると共に、そのエッチング面は平滑となる。ダイヤモンド層2は二酸化シリコン等のマスク材3でマスキングされる。

請求項（抜粋）：

ダイヤモンドをエッチングする方法であって、加速した複数個の分子または原子を構成粒子とした粒子塊を減圧雰囲気中でダイヤモンドに照射することを特徴とするダイヤモンドのエッチング方法。

IPC (4件)：

C30B 33/12 ,  C23F 4/00 ,  C23F 4/02 ,  C30B 29/04

FI (5件)：

C30B 33/12 ,  C23F 4/00 C ,  C23F 4/00 E ,  C23F 4/02 ,  C30B 29/04 V

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭64-068484
  
• 特開平3-163825
  
• ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-262910   出願人：新技術事業団, 安達新産業株式会社