特許
J-GLOBAL ID:200903074411192350

ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-262910
公開番号(公開出願番号):特開平8-120470
出願日: 1994年10月26日
公開日(公表日): 1996年05月14日
要約:
【要約】【構成】 ガスクラスターイオンビームを照射して固体表面を超精密研磨する。【効果】 ガスクラスターイオンを用いるため、原子レベルでの超精密研磨が可能で、イオンの持つエネルギーが通常のイオンエッチングと異なり低いため低損傷での研磨が可能となる。
請求項(抜粋):
ガスクラスターイオンビームを照射して固体表面を研磨することを特徴とする超精密研磨加工方法。
IPC (2件):
C23F 4/00 ,  B24B 1/00
引用特許:
審査官引用 (9件)
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