特許
J-GLOBAL ID:200903074411192350
ガスクラスターイオンビームによる 超精密研磨加工方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-262910
公開番号(公開出願番号):特開平8-120470
出願日: 1994年10月26日
公開日(公表日): 1996年05月14日
要約:
【要約】【構成】 ガスクラスターイオンビームを照射して固体表面を超精密研磨する。【効果】 ガスクラスターイオンを用いるため、原子レベルでの超精密研磨が可能で、イオンの持つエネルギーが通常のイオンエッチングと異なり低いため低損傷での研磨が可能となる。
請求項(抜粋):
ガスクラスターイオンビームを照射して固体表面を研磨することを特徴とする超精密研磨加工方法。
IPC (2件):
引用特許:
出願人引用 (9件)
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特開昭62-296976
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特開昭61-125759
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特開昭57-158378
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審査官引用 (15件)
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特開平3-163825
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特開平3-163825
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特開平2-129386
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特開平2-129386
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特開平4-354865
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特開平4-354865
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研削研磨砥石のツルーイング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-143547
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-045343
出願人:松下電器産業株式会社
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特開昭57-158378
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特開昭57-158378
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特開昭62-296976
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特開昭62-296976
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特開昭61-125759
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特開昭61-125759
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ガスクラスターイオンビームによる固体表面の 平坦化方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-057587
出願人:新技術事業団, 三洋電機株式会社
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