特許

J-GLOBAL ID：200903033721882714

セラミック膜の作製方法

発明者： 北岡 賢治
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-207923
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044392
出願日： 1998年07月23日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【課題】 比較的低温での焼結で結晶成長と緻密化が可能なセラミック膜の作製方法を提供する。【解決手段】 本発明のセラミック膜の作製方法は、ゾル-ゲル法により作製したアモルファスの粉末をゾル-ゲル法により調製したゾルに分散してスラリーを作製し、このスラリーを簿膜状に塗布して熱処理により結晶化するものである。

請求項（抜粋）：

ゾル-ゲル法により作製したアモルファスの粉末をゾル-ゲル法により調製したゾルに分散してスラリーを作製し、このスラリーを簿膜状に塗布して熱処理により結晶化することを特徴とするセラミック膜の作製方法。

IPC (9件)：

C30B 29/32 ,  B05D 3/00 ,  C04B 35/49 ,  C30B 1/02 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/22 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055

FI (8件)：

C30B 29/32 A ,  B05D 3/00 ,  C30B 1/02 ,  C04B 35/49 A ,  H01L 41/08 C ,  H01L 41/18 101 D ,  H01L 41/22 Z ,  B41J 3/04 103 A

Fターム (35件)：

2C057AF37 ,  2C057AF91 ,  2C057AF93 ,  2C057AG12 ,  2C057AG44 ,  2C057AG82 ,  2C057AG89 ,  2C057AG93 ,  2C057AP02 ,  2C057AP14 ,  2C057AP25 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14 ,  4D075BB21Z ,  4D075BB57Z ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075EB05 ,  4G031AA11 ,  4G031AA12 ,  4G031AA32 ,  4G031BA10 ,  4G031CA08 ,  4G031GA01 ,  4G031GA06 ,  4G031GA19 ,  4G077AA03 ,  4G077BC43 ,  4G077CB01 ,  4G077CB04 ,  4G077CB08 ,  4G077FE07 ,  4G077FE19 ,  4G077HA11

引用特許：

審査官引用 (4件)

• イオンフロー静電記録ヘッドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-090008   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 複合酸化物粒子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-144877   出願人：株式会社トクヤマ
• 特開平4-139006
  
• 特開平1-230419