特許
J-GLOBAL ID:200903033724772839

オルガノオキシ基末端オルガノポリシロキサンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-327415
公開番号(公開出願番号):特開2001-139689
出願日: 1999年11月17日
公開日(公表日): 2001年05月22日
要約:
【要約】【解決手段】 (1)HO(R2SiO)nH(Rは1価炭化水素基であり、nは25°Cにおける粘度が10〜10万センチストークスとなる整数である。)で示されるオルガノポリシロキサンと、(2)(R2O)4-a-Si-(R1)a(aは0,1又は2、R1は炭素数1〜18の1価炭化水素基、R2は炭素数1〜18の有機基である。)で示されるオルガノオキシシラン又はその部分加水分解物とを反応させて、下記一般式(A)【化1】で示されるオルガノオキシ基末端オルガノポリシロキサンを製造するに当たり、上記(1)成分と(2)成分とを(3)Ti(OR3)4(R3はアルキル基を示す。)で示されるテトラアルコキシチタンの存在下で反応させることを特徴とするオルガノオキシ基末端オルガノポリシロキサンの製造方法。【効果】 本発明によれば、末端封鎖率はほぼ一定で、85〜99%程度の末端封鎖率を持ってほぼ1時間以内にオルガノオキシ基末端オルガノポリシロキサンを製造することができる。
請求項(抜粋):
(1)下記一般式(I)【化1】(但し、式中Rは1価炭化水素基であり、nは25°Cにおける粘度が10〜10万センチストークスとなる整数である。)で示されるオルガノポリシロキサンと、(2)下記一般式(II)【化2】(但し、aは0,1又は2の整数から選択される数、R1は非置換又は置換の炭素数1〜18の1価炭化水素基から選択される基、R2は炭素数1〜18の有機基である。)で示されるオルガノオキシシラン又はその部分加水分解物とを反応させて、下記一般式(A)【化3】(但し、a,R,R1,R2,nは上記と同様の意味を示す。)で示されるオルガノオキシ基末端オルガノポリシロキサンを製造するに当たり、上記(1)成分と(2)成分とを(3)下記一般式(III)Ti(OR3)4 (III)(但し、R3はアルキル基を示す。)で示されるテトラアルコキシチタンの存在下で反応させることを特徴とするオルガノオキシ基末端オルガノポリシロキサンの製造方法。
Fターム (11件):
4J035BA02 ,  4J035CA04U ,  4J035CA06M ,  4J035FB01 ,  4J035FB02 ,  4J035FB03 ,  4J035FB10 ,  4J035LA02 ,  4J035LB01 ,  4J035LB02 ,  4J035LB03
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (18件)
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