特許
J-GLOBAL ID:200903033794355763
ミックスアンドマッチ露光方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山下 穣平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-316930
公開番号(公開出願番号):特開平11-150054
出願日: 1997年11月18日
公開日(公表日): 1999年06月02日
要約:
【要約】【課題】 ステッパーとスキャン型露光装置のミックスアンドマッチ露光において、スキャン露光工程の重ね合わせ精度を向上させることである。【解決手段】 ミックスアンドマッチ露光方法において、ステッパー露光の際の露光ショットの重ね合わせ誤差の補正を、スキャン型露光装置の露光領域に含まれる露光ショット毎に行う工程を備えている。
請求項(抜粋):
レチクルと半導体基板を縮小投影比に応じた速度で同期走査し、スリット状の照明領域を通過する回路パターンを露光転写するスキャン型露光装置によるスキャン露光、および、レチクルと半導体基板を静止させた状態で一括露光するステッパー(縮小投影露光装置)によるステッパー露光を組み合わせて行うミックスアンドマッチ露光方法において、前記ステッパー露光によって露光ショットを行う際、この露光ショットの重ね合わせ誤差の補正を、同一スキャン露光領域内に含まれるステッパー露光ショット毎に行うことを特徴とするミックスアンドマッチ露光方法。
FI (3件):
H01L 21/30 514 A
, H01L 21/30 514 E
, H01L 21/30 518
引用特許:
審査官引用 (1件)
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露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-152856
出願人:株式会社ニコン
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