特許

J-GLOBAL ID：200903033814156339

帯電防止膜およびその成膜方法及び画像表示装置

発明者： 大里 陽一 ,  日下 貴生 ,  小坂 容子 ,  高木 博嗣
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-088520
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284286
出願日： 1997年04月07日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】 安定性が高く、再現性が良いスペーサ用帯電防止膜およびそれを用いた表示装置を提供する。【解決手段】 CrとAlの合金ターゲットをスパッタして成膜されたCrとAlとの合金窒化膜からなる帯電防止膜である。また、複数の冷陰極型電子放出素子1を形成した基板2と、発光材料を5形成した基板7とを、スペーサ10を介して対向させた構造を有する表示装置に用いられる前記スペーサ10の表面に形成される帯電防止膜10cであって、該帯電防止膜10cは、CrとAlの合金ターゲットをスパッタして成膜されたCrとAlとの合金窒化膜からなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

CrとAlの合金ターゲットをスパッタして得られるCrとAlとの合金窒化膜からなることを特徴とする帯電防止膜。

IPC (3件)：

H05F 1/02 ,  H01J 29/87 ,  H01J 31/12

FI (3件)：

H05F 1/02 E ,  H01J 29/87 ,  H01J 31/12 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 電子線発生装置、画像形成装置、及び支持スペーサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-054132   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭50-096897