特許
J-GLOBAL ID：200903033818652624
磁気抵抗型薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-340504
公開番号（公開出願番号）：特開平8-185613
出願日： 1994年12月29日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：
【要約】【目的】 MRヘッドの実効ギャップ長を狭くして再生分解能を向上させる。MR膜の活性部とその左右に配置される単磁区形成用永久バイアス磁石膜の位置ずれをなくす。【構成】 下シールド18の上に下ギャップ20を成膜する。その上にリード膜として電気導電膜64と、MR膜46に対する単磁区形成用永久バイアス磁石膜を構成する磁石膜62とを積層して成膜する。このリード膜を削って下ギャップ20に達する略々台形状の溝66を形成して左右に分割されたリード30,31を形成する。この左右に分割されたリード30,31を電気的に接続するように溝66に沿ってMR膜46を有する磁気センサ膜28を成膜する。この磁気センサ膜28の上に上ギャップ32を成膜する。その上に上シールド34を成膜する。
請求項（抜粋）：
下シールドと、この下シールドの上に形成された絶縁膜を構成する下ギャップと、この下ギャップの上に形成され、当該下ギャップに達する断面略々台形状の溝によって左右に分割されたリードと、この左右のリードを電気的に接続するように前記溝に沿って形成されたMR膜を有する磁気センサ膜と、この磁気センサ膜の上に形成された絶縁膜を構成する上ギャップと、この上ギャップの上に形成された上シールドとを具備してなる磁気抵抗型薄膜磁気ヘッド。
引用特許：
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