特許
J-GLOBAL ID：200903033874821617

微細パターン形成補助剤及びその製造法

発明者：
西川 雅人

西川 雅人 について

, 
高橋 清久

高橋 清久 について


出願人/特許権者：
クラリアント ジャパン 株式会社

クラリアント ジャパン 株式会社 について


代理人 (2件)： 鐘尾 宏紀 ,  野口 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-090376
公開番号（公開出願番号）：特開2004-294992
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】ろ過性が良好で、塗布欠陥、現像欠陥、経時安定性に優れた微細パターン形成補助剤、この補助剤に用いられる原料ポリマー及びその製造法を提供する。【解決手段】アセタール化ポリビニルアルコール(PVA)などの水溶性変性PVAをイオン交換処理により、脱金属イオン、脱酸を行った後、80°C以上の加熱処理を行う。これにより変性PVA中の25万以上の重量平均分子量を有する高分子量体成分量が低減される。加熱処理後の変性PVAと架橋剤を含む微細パターン形成補助剤を、レジストパターン3上に塗布して被覆層4を形成した後、レジストパターン3及び被覆層4を加熱することにより、レジストパターン3から被覆層に酸が拡散される。拡散された酸により、レジストパターン表面近傍の被覆層が架橋、硬化される。被覆層4現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層5を有し、露光波長の限界解像以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
保護基で保護された変性ポリビニルアルコール、水溶性架橋剤、及び水又は水と水溶性有機溶剤との混合溶媒を含有する微細パターン形成補助剤において、前記保護基で保護された変性ポリビニルアルコールの、ゲル透過クロマトグラフィー法により求めてポリエチレングリコール標準物質より計算した重量平均分子量が25万以上の高分子量体成分量が、当該変性ポリビニルアルコール中1000ppm以下であることを特徴とする微細パターン形成補助剤。
IPC (2件)：
G03F7/40 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/40 511 ,  H01L21/30 575
Fターム (9件)：
2H096AA25 ,  2H096EA02 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA05 ,  5F046AA28
引用特許：
審査官引用 (8件)
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