特許
J-GLOBAL ID：200903033934527403
斜入射用露光マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-108772
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043832
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】イメージコントラストを増加させて微細パターン形成が容易であり、工程余裕度を増加させ工程収率及び素子動作の信頼性を向上させることができる斜入射用露光マスクを提供する。【解決手段】種々な大きさのスペースが一つの露光マスクに形成される場合、最大焦点深度を有するスペースパターンの大きさより斜入射露光に不適切な大きいスペースを有するスペースパターンにおいて、マスク全体のパターンで回折角が同じか、類似させるため補助パターン等を形成するが、前記補助パターンはウェーハ上にイメージを形成しない程度の大きさを有する突起又は、ドット状を反復配列させ枝葉的なスペースの大きさが最大焦点深度を有するようスペースの大きさと近似するようにして大きいスペースで形成される小さいポーカス工程マージンを小さいスペースパターンでの大きいポーカス工程マージンの如く有するようにする。
請求項（抜粋）：
多様なスペースを有する光遮断膜パターン等が透明基板上に形成されている斜入射用露光マスクにおいて、前記光遮断膜パターン等の中、最小スペースを有するパターンよりスペースの大きいパターンに対し、スペースの内側にパターン形成ができない小さな大ささの多数個の補助パターンを備えて同様な大きさのスペース幅を有するようにする斜入射用露光マスク。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 D
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 526 B
